O depósito atômico da camada de ZEIT (ALD) é um método de depositar as substâncias na superfície da carcaça sob a forma da única camada atômica do filme pela camada. O depósito atômico da camada é similar ao depósito químico comum, mas em processo do depósito atômico da camada, a reação química de uma camada nova de filme atômico é associada diretamente com a camada precedente, de modo que somente uma camada de átomos seja depositada em cada reação através deste método.
O depósito atômico da camada é amplamente utilizado em dispositivos de sistemas Micro-eletromecânicos, em exposições eletroluminescentes, em materiais do armazenamento, no acoplamento indutivo, na bateria solar do silicone cristalino, na bateria de fita fina do perovskite, no 3D que empacotam, na aplicação luminosa, nos sensores, no tratamento médico, na camada da proteção de corrosão, na bateria do combustível, na bateria de lítio, nas cabeças de leitura/gravação do disco rígido, no revestimento decorativo, no revestimento da anti-descoloração, em filmes óticos, etc. personalizou a produção disponível.