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Superhard Film Magnetron Sputtering Deposition System In Functional Film Field

Sistema de deposição por pulverização catódica de magnetron de filme superduro em campo de filme funcional

  • Realçar

    Deposição de pulverização catódica de magnetron de campo de filme funcional

    ,

    sistema de pulverização catódica de magnetron de filme superduro

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    sistema de pulverização catódica de magnetron de filme funcional

  • Peso
    Customizável
  • Tamanho
    Customizável
  • Customizável
    Disponível
  • Periodo de garantia
    1 ano ou caso a caso
  • Termos de envio
    Marítimo / Aéreo / Transporte Multimodal
  • Lugar de origem
    Chengdu, PR CHINA
  • Marca
    ZEIT
  • Certificação
    Case by case
  • Número do modelo
    MSC-FF-X—X
  • Quantidade de ordem mínima
    1conjunto
  • Preço
    Case by case
  • Detalhes da embalagem
    caixa de madeira
  • Tempo de entrega
    Caso a caso
  • Termos de pagamento
    T/T
  • Habilidade da fonte
    Caso a caso

Sistema de deposição por pulverização catódica de magnetron de filme superduro em campo de filme funcional

Deposição de Magnetron Sputtering em Campo de Filme Funcional

 

 

Formulários

    Formulários     Propósito específico     tipo de material
    filme funcional     filme superhard     TiN, TiC

    Filme à prova de luz

    Cr, AlSi, AlTi, etc
    filme resistivo       NiCrSi, CrSi, MoTa, etc
   filme supercondutor       YbaCuO, BiSrCaCuo
      filme magnético     Fe, Co, Ni, FeMn, FeNi, etc

 

Princípio de trabalho

Existem muitos tipos de pulverização catódica com diferentes princípios de trabalho e objetos de aplicação.Mas lá

tem uma coisa em comum: faz com que os elétrons percorram trajetórias espirais perto da superfície do alvo pela interação entre

campos magnéticos e elétricos, aumentando assim a probabilidade de geração de íons provenientes de elétrons que atingem o argônio.

Os íons gerados então atingem a superfície do alvo sob a ação do campo elétrico e espalham os materiais do alvo.

 

Características

  Modelo   MSC-FF-X—X
  Tipo de revestimento   Vários filmes dielétricos, como filme metálico, óxido metálico e AIN
  Faixa de temperatura do revestimento   Temperatura normal a 500 ℃
  Tamanho da câmara de vácuo de revestimento   700mm*750mm*700mm (Personalizável)
  vácuo de fundo   < 5×10-7mbar
 Espessura do revestimento   ≥ 10nm
 Precisão do controle de espessura   ≤ ±3%
  Tamanho máximo do revestimento  ≥ 100mm (Personalizável)
  Uniformidade da espessura do filme  ≤ ±0,5%
  transportador de substrato   Com mecanismo de rotação planetária
  Material alvo  4 × 4 polegadas (compatível com 4 polegadas e abaixo)
  Fonte de energia   As fontes de alimentação como DC, pulso, RF, IF e bias são opcionais
 gás de processo   Ar, N2, ó2
  Nota: Produção personalizada disponível.

                                                                                                                

Amostra de Revestimento

Sistema de deposição por pulverização catódica de magnetron de filme superduro em campo de filme funcional 0

 

Etapas do processo

→ Colocar o substrato para revestimento na câmara de vácuo;

→ Aspirar grosseiramente;

→ Ligue a bomba molecular, aspirena velocidade máxima, ligue a revolução e a rotação;

→ Aquecendo a câmara de vácuo até que a temperatura atinja oalvo;

→ Implementar o controle de temperatura constante;

→ Elementos limpos;

→ Revolver e voltar à origem;

→ Filme de revestimento de acordo com os requisitos do processo;

→ Abaixar a temperatura e parar o conjunto da bomba após o revestimento;

→ Pare de trabalhar quandoa operação automática é concluída.

 

Nossas vantagens

Nós somos fabricante.

Processo maduro.

Resposta dentro de 24 horas úteis.

 

Nossa Certificação ISO

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Partes de nossas patentes

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Partes de nossos prêmios e qualificações de P&D

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