5 polegadas × 5 polegadas × 0,09 polegadas Substrato de fotomáscara de quartzo para uso em chip
Formulários
Os campos do processo de fotolitografia, como fabricação de chips de circuito integrado, FPD (Flat Panel Display),
MEMS (Sistemas Micro Eletromecânicos), etc.
Princípio de trabalho
A máscara é uma máscara mestre gráfica comumente usada em fotolitografia de fabricação micro-nano.A estrutura gráfica
é formado em um substrato transparente por uma fotomáscara opaca e, em seguida, a informação gráfica é transferida para o
substrato do produto através de um processo de exposição.
Características
Substrato Photomask para Chip usar
| Modelo / Material | Tamanho | Capacidade de processamento |
| 5009 / Quartzo | 5 polegadas × 5 polegadas × 0,09 polegadas | Moagem, polimento, chapeamento de cromo, Gluing |
Fluxo de processo
→ Detecção de matérias-primas;
→ Desbaste grosseiro;
→ Polimento grosseiro;
→ Limpeza da máscara;
→ Inspeção de desempenho de matérias-primas;
→ Cromado;
→ Teste de desempenho da máscara;
→ Revestimento fotorresistente;
→ Embalagens;
→ Transporte.
Nossas vantagens
Nós somos fabricante.
Processo maduro.
Resposta dentro de 24 horas úteis.
Nossa Certificação ISO
Partes de nossas patentes
Partes de nossos prêmios e qualificações de P&D
Nossos produtos são vendidos em todo o mundo. Você pode ter certeza de todo o processo de nossos produtos.
