carcaça do Photomask de quartzo do × 127mm de 127mm para o uso de FPD
Aplicações
Os campos do processo da fotolitografia, tais como a fabricação da microplaqueta do circuito integrado, FPD (tela plano),
MEMS (micro eletro sistemas mecânicos), etc.
Princípio de funcionamento
A máscara é uma máscara mestra gráfica de uso geral na fotolitografia da fabricação micro-nano. A estrutura gráfica
é formado em uma carcaça transparente por um photomask opaco, e a informação gráfica é transferida então ao
carcaça do produto com um processo da exposição.
Características
Carcaça do Photomask para o uso de FPD
| Modelo/material | Tamanho | Capacidade de processamento |
| 5 polegadas/quartzo | × 127mm de 127mm | Moedura, lustrando, chapeamento de Chrome, colando |
Fluxo de processo
Detecção das matérias primas do →;
Moedura áspera do →;
Lustro áspero do →;
Limpeza da máscara do →;
Inspeção do desempenho das matérias primas do →;
O → chapeou pelo cromo;
Testes de desempenho da máscara do →;
Revestimento do fotoresistente do →;
Empacotamento do →;
Transporte do →.
Nossas vantagens
Nós somos fabricante.
Processo maduro.
Resposta dentro de 24 horários laborais.
Nossa certificação do ISO
Partes de nossas patentes
Partes de nossas concessões e qualificações do R&D
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