Substrato fotomáscara de quartzo 350 × 300 mm para fabricação de chip de circuito integrado

carcaça do Photomask de quartzo do × 300mm de 350mm para o uso de FPD

Aplicações

Os campos do processo da fotolitografia, tais como a fabricação da microplaqueta do circuito integrado, FPD (tela plano),

MEMS (micro eletro sistemas mecânicos), etc.

Princípio de funcionamento

A máscara é uma máscara mestra gráfica de uso geral na fotolitografia da fabricação micro-nano. A estrutura gráfica

é formado em uma carcaça transparente por um photomask opaco, e a informação gráfica é transferida então ao

carcaça do produto com um processo da exposição.

Características

Carcaça do Photomask para o uso de FPD

Fluxo de processo

Detecção das matérias primas do →;

Moedura áspera do →;

Lustro áspero do →;

Limpeza da máscara do →;

Inspeção do desempenho das matérias primas do →;

O → chapeou pelo cromo;

Testes de desempenho da máscara do →;

Revestimento do fotoresistente do →;

Empacotamento do →;

Transporte do →.

Nossas vantagens

Nós somos fabricante.

Processo maduro.

Resposta dentro de 24 horários laborais.

Nossa certificação do ISO

Partes de nossas patentes

Partes de nossas concessões e qualificações do R&D