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Substrato fotomáscara de quartzo 350 × 300 mm para fabricação de chip de circuito integrado
Esmerilhamento Polimento Cromado 5280 Quartz Photomask Substrato 800 mm × 520 mm
Equipamento do sistema de medição de birrefringência VIS 520nm 590nm 650nm
Arranhões, poeira, semicondutor, superfície, resolução, equipamento, detecção, 1,8μM
Equipamento de teste óptico de sistemas detectores de superfície semicondutores 40x
Sistema de Medição de Birrefringência de Tensão de Resina Transparente Equipamento de Detecção em Tempo Real
Equipamento de detecção de defeitos de superfície de substrato de vidro 1,8um
Micro Electro Mechanical Systems 5009 Quartz Photomask Substrate 5 × 5 × 0,09 polegadas
TiO2 Al2O3 ALD Equipamento de revestimento óptico de deposição de camada atômica ISO
TiO2 Al2O3 Revestimento Óptico ALD Equipamento de Deposição ISO
Elementos ópticos de filme multicamada dielétrico Espelho parabólico Processamento de superfície esférica
6 × 6 × 0,12 polegadas MEMS Chrome Photomask Substrato Revestimento fotorresistente
Soluções de linha de produção automatizada da indústria petroquímica de energia nova para alimentação do sistema de blanking
Soluções de linha de produção automatizada ZEIT para sistema de limpeza e reciclagem
Revestimento giratório de equipamentos não padronizados ZEIT para a indústria de processamento óptico
Petroquímica Indústria automobilística Equipamento não padronizado Máquina de polimento óptico

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