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Dielectric Films Optical Coating Equipment Ar N2 O2 PVD Magnetron Sputtering Deposition

Filmes dielétricos Equipamento de revestimento óptico Ar N2 O2 PVD Magnetron Sputtering Deposition

  • Realçar

    O pvd de ZEIT engasga o equipamento de revestimento ótico do depósito

    ,

    Magnétron dielétrico dos filmes de ZEIT que engasga o depósito

    ,

    Depósito do salpico do pvd do O2 do N2 de ZEIT AR

  • Peso
    2500±200KG, personalizável
  • Tamanho
    2800mm*1000mm* 2300mm, personalizável
  • Customizável
    Disponível
  • Período de garantia
    1 ano ou caso por caso
  • Termos de envio
    Pelo mar/ar/transporte Multimodal
  • Lugar de origem
    Chengdu, PR CHINA
  • Marca
    ZEIT
  • Certificação
    Case by case
  • Número do modelo
    MSC700-750-700
  • Quantidade de ordem mínima
    break
  • Preço
    Case by case
  • Detalhes da embalagem
    caixa de madeira
  • Tempo de entrega
    Caso a caso
  • Termos de pagamento
    T/T
  • Habilidade da fonte
    Caso a caso

Filmes dielétricos Equipamento de revestimento óptico Ar N2 O2 PVD Magnetron Sputtering Deposition

Magnétron de PVD que engasga o depósito

 

 

Aplicações

Aplicações  Finalidade específica  Tipo material
Semicondutor  IC, elétrodo do LSI, prendendo o filme  AI, Al-si, Al-Si-Cu, Cu, Au, pinta, paládio, AG
 Elétrodo da memória do VLSI  Mo, W, si
 Filme da barreira de difusão  MoSix, Wsix, TaSix, TiSx, W, Mo, W-si
 Filme esparadrapo  PZT (pb-ZrO2-si), si, W
 Exposição  Filme condutor transparente  ITO (In2O; - SnO2)
 Filme da fiação do elétrodo  Mo, W, Cr, Ta, si, Al, AlTi, AITa
 Filme eletroluminescente

 ZnS-manganês, ZnS-TB, CAS-Eu, Y2O3, Ta2O5,

 BaTiO3

 Gravação magnética  Filme de gravação magnética vertical  CoCr
 Filme para o disco rígido  CoCrTa, CoCrPt, CoCrTaPt
 Cabeça magnética de filme fino  CoTaZr, CoCrZr
 Filme de cristal artificial  CoPt, CoPd
Gravação ótica  Filme de gravação do disco da mudança de fase  TeSe, SbSe, TeGeSb, etc.
 Filme de gravação do disco magnético

 TbFeCo, DyFeCo, TbGdFeCo,

TbDyFeCo

 Filme reflexivo do disco ótico  AI, AITi, AlCr, Au, liga do Au
 Filme da proteção do disco ótico  Si3N4, SiO2+ZnS
 Bateria de fita fina do Perovskite  Camada de condução transparente  ZnO: Al
 Tratamento médico  Materiais Biocompatible  Al2O3, TiO2
 Revestimento decorativo  Filme colorido, filme metalizado  Al2O3, TiO2, etodos ostiposdefilmesdometal
 revestimento da Anti-descoloração  Revestimento da antioxidação do metal precioso Al2O3, TiO2
 Filmes óticos  Alto-baixo R.I.  SiO2, TiO2, Ta2O5,₂deZrO, HfO2
 Outras aplicações  Filme opaco  Cr, AlSi, AlTi, etc.
 Filme Resistive  NiCrSi, CrSi, MoTa, etc.
 Filme Superconducting  YbaCuO, BiSrCaCuo
 Filme magnético  Fe, Co, Ni, FeMn, FeNi, etc.

 

Princípio de funcionamento

Engasgar do magnétron é um tipo do depósito de vapor físico (PVD). Faz o movimento dos elétrons na espiral

trajetos perto da superfície do alvo pela interação entre campos magnéticos e elétricos, assim aumento

probabilidade dos elétrons que batem o gás do argônio para gerar íons. Os íons gerados bateram então a superfície do alvo

sob a ação do campo elétrico e para engasgar os materiais de alvo ao filme fino do deposite na superfície da carcaça.

O método geral engasgar pode ser usado para a preparação de vários metais, semicondutores, ferromagnetic

materiais, assim como óxidos isolados, cerâmica e outras substâncias. O equipamento usa o toque de PLC+

sistema de controlo do painel HMI, que pode incorporar parâmetros pela relação de processo programável, com as funções

como o único alvo que engasga, engasgando sequencial a várias línguas de chegada e co-engasgando.

 

Características

  Modelo   MSC700-750-700
  Tipo de revestimento   Vários filmes dielétricos tais como o filme do metal, o óxido de metal e o AIN
  Variação da temperatura de revestimento   Temperatura normal a 500℃ (customizável)
  Tamanho de revestimento da câmara de vácuo   700mm*750mm*700mm (customizável)
  Vácuo do fundo   <5>-7mbar
 Espessura de revestimento   ≥10nm
  Precisão de controle da espessura   ≤±3%
  Tamanho de revestimento máximo   ≥100mm (customizável)
  Uniformidade da espessura de filme   ≤±0.5%
  Portador da carcaça   Com mecanismo planetário da rotação
  Material de alvo   polegadas 4x4 (compatíveis com 4 polegadas e abaixo)
  Fonte de alimentação  As fontes de alimentação tais como C.C., pulso, RF, SE e a polarização é opcional
  Gás do processo   AR, N2, O2
Nota: Produção personalizada disponível.

                                                                                                                

Amostra de revestimento

Filmes dielétricos Equipamento de revestimento óptico Ar N2 O2 PVD Magnetron Sputtering Deposition 0

 

Etapas do processo

O → coloca a carcaça para revestir na câmara de vácuo;

O → vacuumize aproximadamente;

O → gerencie na bomba molecular, vacuumize na velocidade superior, a seguir gerencie na revolução e na rotação;

→ que aquece a câmara de vácuo até que a temperatura alcançar o alvo;

O → executa o controle de temperatura constante;

O → limpa elementos;

O → revolve e de volta à origem;

Filme de revestimento do → de acordo com exigências do processo;

O → abaixa a temperatura e para o conjunto da bomba após o revestimento;

O → para de trabalhar quando a operação automática é terminada.

 

Nossas vantagens

Nós somos fabricante.

Processo maduro.

Resposta dentro de 24 horários laborais.

 

Nossa certificação do ISO

Filmes dielétricos Equipamento de revestimento óptico Ar N2 O2 PVD Magnetron Sputtering Deposition 1

 

 

Partes de nossas patentes

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Partes de nossas concessões

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