O centro de tecnologia de revestimento de ZEIT empreendeu o projeto de desenvolvimento do processo de Suzhou PECVD. Após a metade de um mês do desenvolvimento de processo e da descoberta tecnologico, ZEIT terminou o processo de PECVD de SiNx e os filmes SiO2, alcançaram os índices da uniformidade da superfície e da cada uniformidade da camada.
Com este projeto, ZEIT formou próprias características nas tecnologias de núcleo do equipamento de PECVD, tais como o RF que combina, a pressão rápida e estável da reação, distribuição uniforme do fluxo de ar, e igualmente tem soluções propostas para a poluição da poeira, a superfície modelada do filme, a auto-limpeza da câmara, etc. levantando-se daquela, ZEIT acumulou muita experiência da otimização do equipamento de PECVD e do ajuste tecnologico, que colocou um alicerce sólido para a substituição de importação, a industrialização, e relações com os clientes contínuas.